scribing1 ITO Scribing & Cleaning 1. 실험목적 ▷OLED/PLED/OPV device의 투명전극으로 사용되는 ITO galss를 원하는 크기로 자르는 방법을 습득한다. ▷원하는 모양으로 자른 ITO glass의 오염된 표면을 세정하여 소자의 성능 및 수율을 향상시킨다. 2. 이론 및 배경 Pattern 공정을 하기 위해서는 주변의 청정도가 매우 중요한데, 아래 그림에서 보는 것과 같이 Clean room에서 빛에 노출되지 않는 환경을 구비한 후 공정을 시작하여야 한다. ▷ Cleaning & Wet-Station의 중요성 모든 반도체 공정은 오염물들의 근원이고 이는 소자의 성능과 수율에 직접적인 영향을 미치게 된다. 각 공정 후 Glass 표면의 오염물은 기하급수적으로 늘어나게 되고 이 오염물에 의해 반도체 소자의 수율은 급격히 감소하.. 2017. 6. 24. 이전 1 다음